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等离子刻蚀机

 
品牌: SENTECH
产地类别: 进口
单价: 面议
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供货总量:
发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
所在地: 进口
有效期至: 2022-08-23
最后更新: 2021-09-06 17:05
浏览次数: 99
 
公司基本资料信息
详细说明

总部位于德国柏林科技园区的SENTECH仪器公司,已成为光伏生产设备世界市场之 一。

ICP-RIE等离子刻蚀机

SI500产品介绍

高端等离子刻蚀设备SI 500使用低离子; 能量的电感耦合等离子体用于低损伤刻: 蚀和纳米结构刻蚀。通过在广泛的温度: 范围内的动态温度控制确保了可重复且稳定的等离子刻蚀条件。深反应等离子;刻蚀(硅,III-V族半导体,MEMS)可: 采用低温工艺和室温下的气体切换工艺: 来实现。


仪器特点

*低损伤刻蚀 ?高速刻蚀

*自主研发的ICP等离子源


*动态温度控制


RIE等离子刻蚀机Etchlab 200


产品介绍:

经济型等离子刻蚀设备EtchLab 200具备 低成本效益高的特点,并且支持揭盖直接 放置样片。EtchLab 200允许通过载片 器,实现多片工艺样品的快速装载,也可 以直接快速地把样品装载在电极上。RIE等离子体刻蚀设备具备占地面积小, 模块化和灵活性等设计特点.



仪器特点:

*低成本效益高

*升级扩展性

*SENTECH控制软件



RIE等离子刻蚀机SI 591


产品介绍

SI 591特别适用于采用氟基和氣基 :气体的工艺,可以通过预真空室和电 :脑控制的等离子工艺系统实现。SI 591的特点是占地空间小,高度灵活性,例如,SI 591可作为单一反应腔系统集成在多腔系统中。



仪器特点

*工艺灵活性

*占地面积小且模块化程度高

*SENTECH控制软件



以上就是等离子刻蚀机的相关信息,如您想了解更多关于等离子刻蚀机报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:对于医疗器械类产品,请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

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